Крупные компании IBM, AMD, Infineon AG, Micron, ADML Holding NV и KLA-Tencor создали семилетний консорциум INVENT, вложив в него $600 млн. Новое объединение называется «нанолитографическое предприятие», и его исследовательский центр будет находится в университете Албании, США. Задачей, которую поставят перед учёными и специалистами, будет разработка новых миниатюрных микросхем и обучение персонала. 

IBM уже работала с университетом в Альбани и имеет немало наработанного материала. Будет создано также ещё несколько исследовательских центров. Кроме самих компаний, интерес к консорциуму проявило правительство США, выделив $ 75 млн. 

Основной целью консорциума является разработка подходов к созданию микросхем. Планируется улучшить и создать принципиально новый путь литографического процесса, используя литографию сверхжесткого ультрафиолетового излучения (EUV). Надо отметить, что не так давно, компании Intel и Corning, заключили соглашению по совместной разработки стеклянных основ фотомасок со сверхнизким распространением тепла ULE (lowthermalexpansion). Начатые исследования должны найти практическое применение к 2010 году. Любопытно будет посмотреть, кто решит задачку раньше – Intel или INVENT.

Источник:  3dnews